公告本公司取得中華人民共和國國家知識產權局核發 CN 2991412專利

1.專利、商標、著作或其他智慧財產權之內容:曝光機台的遮光裝置2.專利、商標、著作或其他智慧財產權之取得日期:107/07/063.取得專利、商標、著作或其他智慧財產權之成本:NT$ 71,2714.其他應敘明事項:一種曝光機台的遮光裝置，包括主遮光機構及輔助遮光機構。主遮光機構，設置於光行進路徑上。輔助遮光機構設置於光行進路線上且位於主遮光機構的一側。其中，由主遮光機構與輔助遮光機構所形成的曝光開口的形狀對應於晶圓上的曝光區域的形狀。