公告本公司取得美國專利局核發US 9460933專利
2016-12-29
公司:力晶創新投資控股
1.專利、商標、著作或其他智慧財產權之內容:
圖案化方法
2.專利、商標、著作或其他智慧財產權之取得日期:105/10/04
3.取得專利、商標、著作或其他智慧財產權之成本: NT$ 217,447
4.其他應敘明事項:
一種圖案化方法。提供材料層。於材料層上形成依序包括第一罩幕層與第一光阻
層的多個罩幕結構。於材料層上共形地形成覆蓋罩幕結構的第二罩幕層。於罩幕
結構間形成第一犧牲層。移除部份第二罩幕層而暴露第一光阻層,以於罩幕結構
間形成第一U型罩幕層。移除第一光阻層與第一犧牲層。於材料層上共形地形成具
有第一表面與低於第一表面的第二表面的第三罩幕層。於第三罩幕層的第二表面
上形成第二犧牲層。移除部份第三罩幕層而暴露第一U型罩幕層的突出部,以形成
第二U型罩幕層。以第二U型罩幕層的突出部為罩幕,對材料層圖案化。
圖案化方法
2.專利、商標、著作或其他智慧財產權之取得日期:105/10/04
3.取得專利、商標、著作或其他智慧財產權之成本: NT$ 217,447
4.其他應敘明事項:
一種圖案化方法。提供材料層。於材料層上形成依序包括第一罩幕層與第一光阻
層的多個罩幕結構。於材料層上共形地形成覆蓋罩幕結構的第二罩幕層。於罩幕
結構間形成第一犧牲層。移除部份第二罩幕層而暴露第一光阻層,以於罩幕結構
間形成第一U型罩幕層。移除第一光阻層與第一犧牲層。於材料層上共形地形成具
有第一表面與低於第一表面的第二表面的第三罩幕層。於第三罩幕層的第二表面
上形成第二犧牲層。移除部份第三罩幕層而暴露第一U型罩幕層的突出部,以形成
第二U型罩幕層。以第二U型罩幕層的突出部為罩幕,對材料層圖案化。
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